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北京米地亚科技有限公司



 

北京米地亚科技有限公司研制生产了各种类型、各种尺寸、各类应用的宽束离子源产品。其广泛应用于半导体，光电器件的微图形刻蚀、制备光学薄膜的辅助镀膜、离子束溅射沉积镀膜、离子束抛光、离子束共混、材料改性等各个领域。本公司研制大功率离子源，能量高，束流密度大，适合溅射沉积超硬材料如WC、TaB2、sio2等。本公司刻蚀用离子源经过多年研究，刻蚀速率快，均匀性好，图形陡直度高。目前本公司设计、制造的各种类型的离子源有数百套，已应用在各科研单位及各大小企业中。



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